在印制电路工业的传统知识里﹐特别是印制电路原料的供货商们皆认同﹐并得经验证 实﹐氨性蚀刻液中的一价铜离子含量越低﹐反应速度就越快。 事实上﹐许多的氨性蚀刻液 产品都含有价铜离子的特殊配位基(一些复杂的溶剂)﹐其作用是降低一价铜离子(产品具 有高反应能力的技术秘诀)﹐可见一价铜离子的影响是不小的。 将一价铜由 5000ppm 降至 50ppm,云浮标牌定制, 蚀刻速率即提高一倍以上。 由于在蚀刻反应的过程中会生成大量的一价铜离子,金属标牌定制, 而一价铜离子又总是与氨的络合 基紧紧的结合在一起﹐所以要保持其含量近于零是十分困难的。
对于优良侧面效果的制造方式﹐外界均有不同的理论、 设计方式和设备结构的研究,电铸标牌定制, 而这些理论却往往是人相径庭的。 但是, 有一条基本的原则已被公认并经化学机理分析 证实﹐就是尽速让金属表面不断地接触新鲜的蚀刻液。 在氨性蚀刻中﹐假定所有参数不变 ﹐那么蚀刻的速率将主要由蚀刻液中的氨(NH3)来决定。因此, 使用新鲜溶液与蚀刻表面 相互作用﹐其主要目的有两个﹕冲掉刚产生的铜离子及不断为进行反应供应所需要的氨 (NH3)。
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