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真空电镀时产生掉膜的原因很多也很复杂。处理起来很棘手，可以考虑从以下几个方面排除：

1、表面清洁度

产品表面洁净度不够，可以考虑离子源清洗时业气放大、时间长点。

2、清洗过程中的问题

镀前清洗不到位，或更换了清洗液。

3、工艺的问题

工艺参数是否有变动，在镀膜时间和电流上做适当调整。

4、靶材的问题

钛靶是否众毒，检查和更换。

5、真空腔是否漏气

进行一次捡漏。

6、产品表面氧化

氧化的原因很多，可以自行判断处理。

6.在防伪技术中

防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式；从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜式或间接镀膜剪贴式。

7.在飞机防护涂层方面

飞机的钛合金紧固件，原来采用电镀方法镀镉。但在镀镉中含有氢，所以在飞行过程中，受到大气、海水的腐蚀，镀层上容易产生“镉脆”，甚至引起“空难”。

1964年，真空镀加工厂家，采用离子镀方法在钛合金紧固件上镀铝，汨罗真空镀加工厂家，解决了飞机零件的“镉脆”问题。在离子镀技术中，由于给工件施加负偏压，可以形成“伪扩散层”、细化膜层**，因此，可以显著提高膜层的耐腐蚀性能。

8.在光学仪器中

人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。

9.在信息存储领域中

薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势：

由于薄膜很薄，可以忽略涡流损耗；磁化反转极为迅速；与膜面平行的双稳态状态容易保持等。

为了更精密地记录与存储信息，武冈真空镀加工厂家，必然要采用镀膜技术。

10.在传感器方面

在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。此外，其中，大多数利用的是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工业化、**格制作，因此，采用薄膜的情况很多。

11.在集成电路制造中

晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、电极管线（铝、铜及其合金）等，多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见，沅江真空镀加工厂家，气相沉积是制备集成电路的核心技术之一。

一、真空镀膜器材污染物的来源及清洁处理

真空镀膜器材由许多不同的零件组成，它们都是经过各种机械加工完成得，例如车、铣、刨、磨、镗、焊接等。这样，零件表面不可避免地会沾上许多加工油脂、汗痕、抛光膏、焊剂、金属屑、油垢等污染物。这些污染物在真空中易挥发，影响真空镀膜设备的极限压力和性能稳定性。此外，污染物的大气压下吸附了大量的气体，在真空环境中，这些气体也要被释放出来，构成了限制真空镀膜设备极限压力的因素。为此，零件组装前必须清除掉污染物。

二、真空镀膜器材真空系统地清洗处理

1、油扩散泵真空系统地污染与防治

油扩散泵真空系统是使用广泛的真空系统，其获得真空度范围为1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油扩散泵真空系统构成的各类真空镀膜设备，常见的故障是真空度抽不上去或真空度抽不到原来的极限压力水平。真空度抽不上去的原因需要仔细分析，可能是活动密封处松动、焊缝漏气、真空泵或真空阀门等元件损坏等原因所导致。此外，真空室内壁的油蒸汽污染，真空工艺过程各种污染物的污染也可能是主要原因。防止的方法是：定期清洗真空室。定期对油封机械真空泵和油金属扩散泵进行清理。

2、超高真空系统地烘烤与清洗

由溅射离子泵和钛升华泵组成的真空系统是目前获得清洁超高真空的主要抽气手段，能获得低于1.3*10-3Pa的压力。中小型真空镀膜设备真空系统以溅射离子泵作为主泵，大型真空系统以钛升华泵做主泵。超高真空系统要求真空室内壁相当干净，零件表面粗糙度要求高，材料放气量要小。真空室零件要进行严格地清洁处理，不要用手接触零件表面。真空室的漏率也要严加控制。除此外，还要对真空室进行烘烤。