感应耦合等离子体刻蚀机-北京创世威纳

感应耦合等离子体刻蚀机的结构二

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刻蚀腔体刻蚀腔体是ICP 刻蚀设备的核心结构，它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响。刻蚀腔的主要组成有：上电极、ICP 射频单元、RF 射频单元、下电极系统、控温系统等组成。

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感应耦合等离子体刻蚀机的结构一

预真空室预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境（如：粉尘、水汽）的影响，感应耦合等离子体刻蚀机，将**性气体与洁净厂房隔离开来。它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。

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等离子刻蚀工艺

高密度等离子体源在刻蚀工艺上具有许多优势，例如，可以更准确地控制工作尺寸，刻蚀速率更高，更好的材料选择性。高密度等离子体源可以在低压下工作，从而减弱鞘层振荡现象。使用高密度等离子体源刻蚀晶片时，为了使能量和离子通量彼此**，需要采用**射频源对晶圆施加偏压。因为典型的离子能量在几个电子伏特量级，感应耦合等离子体刻蚀机多少钱，在离子进入负鞘层后，其能量经加速将达到上百电子伏特，感应耦合等离子体刻蚀机哪家好，并具有高度指向性，从而赋予离子刻蚀的各向异性。

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