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真空腔体

电解抛光

电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步：（1）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra>1μm。（2）微光平整 阳极极化，表面光亮度提高，Ra＜1μm 。

真空腔体

一般真空腔体内部是规则的长方体，用一面加热进行热辐射的方式热传导不能合理涵盖整个腔体的内部空间，所以效果不是很理想，.经过试验论证，采取在真空腔体内正上方、正下方、左侧面、右侧面各安装一套加热板加热的方法，采用面对面热辐射方式对腔体内部进行加热.

由于设备在真空状态下采用了上，下，左，超高真空腔体加工价格，右四面四路加热的方法，超高真空腔体加工多少钱，比单纯一路加热就要复杂多了，这也是温度控制的难点.因此采用PID来进行温度控制调节，控温热偶设置在腔体内部，这样可以更好地控制真空腔体内的温度.

动态泄漏

真空系统中有运动传递的地方会采用动密封，北京超高真空腔体加工，这些动密封结构，很有可能在静态的时候密封良好而运动的时候产生泄漏；比如采用橡胶轴封做动密封（阀杆与阀体之间）的阀门，就比较容易发生这种现象。这种现象发生的概率不高，不过由于检漏时阀门一般是处于打开或关闭的某一个状态，这种动态泄漏很难被发现。

对于非常关键的工艺，选择波纹管密封的阀门可以大大减小出现动态泄漏的概率；如果选用的还是轴封做密封的阀门，在检漏时