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蒸发镀膜

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，真空镀膜公司，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

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真空镀膜系统

电子束蒸发源蒸镀法

将蒸发材料放入水坩锅中，真空镀膜多少钱，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。

依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形，四川真空镀膜，直，e型和空心阴极电子等几种。

环形是由环形的阴极来发射电子束，真空镀膜厂家，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。

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在OLED显示面板的制造过程中，需要在玻璃基板上进行有机膜层的真空蒸镀，该工作步骤需要在真空蒸镀机内来完成。因此，提供一种手套箱蒸镀一体机，本系统由真空镀膜系统和真空手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。