




蒸发镀膜
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小
组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,真空镀膜哪家好,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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真空度对真空镀膜有什么重大影响
真空镀膜行业由于其镀膜工艺,需要抽真空,因此都连接了真空系统,真空泵因此大量应用于真空镀膜行业,真空泵过滤器也具有大量需求。
真空镀膜过程中,使用的真空度一般要求在10的负3次方上下,真空度是真空镀膜时务必严格管理的指标值之一,它对镀膜产品的颜色、耐磨性能、坚固度有非常重要的关联。

真空镀膜系统
工艺气体输入系统
工艺气体,如气(Ar)、气(Kr)、氮气(N2)、(C2H2)、(CH4)、氢气(H2)、氧气(O2)等,一般均由气瓶供应,经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀,然后通入真空室。这种气体输入系统的优点是,管路简捷、明快,维修或更换气瓶容易。各涂层机之间互不影响。也有多台涂层机共用一组气瓶的情况,这种情况在一些规模较大的涂层车间可能有机会看到。它的好处是,减少气瓶占用量,统一规划、统一布局。缺点是,由于接头增多,使漏气机会增加。而且,各涂层机之间会互相干扰,一台涂层机的管路漏气,有可能会影响到其他涂层机的产品质量。此外,更换气瓶时,必须保证所有机台都处于非用气状态。

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