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真空镀膜机

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，真空镀膜，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，真空镀膜系统，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

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现代真空镀膜机膜厚测量及监控方法

涂层的镀膜机控制方法是直接的石英晶体微天平(QCM)的方法，该仪器可以直接驱动的蒸发源，通过PID控制回路传动挡板，使蒸发率。只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。但(QCM)的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。

此外，虽然QCM在低温下非常稳定，但温度高，它将成为对温度很敏感。在长时间的加热过程中，镀膜机很难避免传感器为敏感的区域，导致薄膜的重大错误。 光学监测是一种涂层优选的监控模式，镀膜机这是因为它能准确控制膜的厚度(如果使用得当)。

精度的提高，由于许多因素，但根本的原因是光学厚度的监测。optimalswa-i-05单一波长的光学监测系统，是间接控制，镀膜机***的光学监测软件结合王博士的发展，有效地改善和灵敏度变化的光反应的膜厚度的减少终的误差的理论方法，真空镀膜公司，提供监测波长的反馈或传输模式的选择和广泛的。特别适用于涂布各种薄膜厚度监控包括不规则的膜。

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真空度对真空镀膜有什么重大影响

真空镀膜行业由于其镀膜工艺，需要抽真空，因此都连接了真空系统，真空泵因此大量应用于真空镀膜行业，真空泵过滤器也具有大量需求。

真空镀膜过程中，使用的真空度一般要求在10的负3次方上下，真空度是真空镀膜时务必严格管理的指标值之一，它对镀膜产品的颜色、耐磨性能、坚固度有非常重要的关联。