真空pvd镀膜公司-更合真空pvd镀膜-泰坦金属制品有限公司

真空镀膜的优缺点

1、优点

表面有较好的金属质感且细腻。

颜色较水电镀可解决七彩色的问题如魔幻蓝、闪银灯；水电镀颜色较单调，一般只有亮银、亚银等少数几种。

基材材质选用范围广，如PC、ABS、PMMA，（水镀只能选择ABS、ABS+PC）。

通过镀铟锡可做成半透的效果，灯光可以从产品中发出来。

不污染环境。

2、缺点

蒸镀靶材受熔点限制，太高熔点的不易采用。

真空蒸镀不过UV油，其附着力较差，要保证真空蒸镀的附着力，均需后续进行特殊的喷涂处理。

真空镀膜加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在HV300-600，高的甚至可达到HV700以上，而电镀镍的硬度仅为 HV160-180，真空pvd镀膜厂，显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后，更合真空pvd镀膜，其硬度还可以提高，可达HV900以上。

自润滑性好 经合金镀液处理过的金属表面是一种非晶态，即处于基本平面状态，真空pvd镀膜公司，有自润滑性，因此摩擦 系数小，非粘着性好。

主要分为一下几类：

蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。

蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。