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真空除气储存柜设备用途 

本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。

机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。

真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；X射线管高真空除气。

真空除气存储柜工艺流程

真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。

该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。

设备具有很高的智能化，天津硅片除气装置，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，硅片除气装置品牌，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。

真空除气炉的构成介绍

真空测量装置：采用复合真空计，使测量更加准确。

加热烘烤组件：采用铠装管加热，硅片除气装置生产厂家，包括工件托盘及支架，箱室顶部中心测温。功率：9.5千瓦，控制精度：±1℃。

管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了必要的物质基础。

真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。

前级泵：选用涡旋干式真空泵，无油运行，可为真空箱室提供洁净的真空环境。

分子泵：选用脂润滑复合分子泵，可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。

管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了必要的物质基础。