




真空镀膜技术一般分为两大类,玻璃真空镀膜工厂,即物***相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物***相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相沉积方法制得,它利用某种物理过程,玻璃真空镀膜加工,如物质的热蒸发,或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
真空镀膜玻璃真空镀膜
相对于传统镀膜方式,真空镀膜应用属于一种干式镀膜,它的主要方法包括以下几种:
真空蒸镀
其原理是在真空条件下,用蒸发器加热带蒸发物质,使其气化或升华,蒸发离子流直接射向基片,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下,在阴极接上2000V高压电,激发辉光放电,带正电的离子撞击阴极,使其射出原子,玻璃真空镀膜,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
离子镀膜
即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技术基础上发展而来的,因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下,利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化,并在离子轰击下,玻璃真空镀膜厂,将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中,基片始终受到高能粒子的轰击,十分清洁。
真空卷绕镀膜
真空卷绕镀膜是一种利用物***相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术,以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。
上述四种都属于物***相沉积技术应用(PVD)。
接下来是化学气相沉积(CVD)。它是以化学反应的方式制作薄膜,原理是一定温度下,将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附,在基片上产生化学反应形成核,随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。
束流沉积镀,结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术,是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料,在比较低的基片温度下,形成具有良好特性薄膜的技术。

为什么真空镀膜可以做成不同的颜色,还有七彩色?
因为在真空蒸镀完之后还要喷一层UV光油面漆,这层面漆上可以做不同的颜色。蒸镀通过镀一些硅化物可以做成七彩色,但比较薄,近看可以,远看不明显,;溅射通过CSi、CO、Si等物质进行反应镀可镀出七彩色,或者通过低温多层不同颜色的镀膜来呈现多彩。
而水电镀的一般为金属本色,要呈现其他颜色的需要涂UV面漆然后UV照射。
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