




基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。
一般来说,同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。因为外表积大,五金真空镀膜,其实在电流密度较低,不易到达金属的分出电位,而仅仅分出很多氢气。别的,若是基体外表镀前处置不良,存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等,五金真空镀膜公司,也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。
从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,
以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。
蒸发源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,五金真空镀膜厂家,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质,电阻加热源主要用于蒸发Cd、
Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。
基体外表状况对掩盖才能的影响
基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明,金属在不一样基体资料上电堆积时,同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬,金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时,镀液的掩盖才能顺次递减。这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时,其过电位的数值有很大的不一样。过电位较小的分出电位较正,即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值,因而其掩盖才能较好。
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