真空镀膜-北京艾明坷公司-真空镀膜报价

真空镀膜系统主要构成

1.真空室

涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式，不锈钢材料制造、表面进行化学抛光处理，真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。

2.真空获得部分

在真空技术中，真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的，必须将几种泵联合使用，如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。

3.真空测量部分

真空系统的真空测量部分，就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样，没有一种真空计能测量整个真空范围，人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。

4.电源供给部分

靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(RF)。

5.工艺气体输入系统

工艺气体，如氮气(N2)、氢气(H2)、氧气(O2)等，一般均由气瓶供应，经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀，然后通入真空室。

6.机械传动部分

涂层要求周边必须厚度均匀一致，因此，真空镀膜多少钱，在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。

7.加热及测温部分

涂层设备一般有不同位置的加热器，用热电偶测控温度。但是，由于热电偶装夹的位置与工件位置不同，温度读数不可能是工件的真实温度。要想测得工件的真实温度，有很多方法，可以在工件上装高温试纸或热偶计。

8.离子蒸发及溅射源

多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，真空镀膜报价，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了保证靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。

9.水冷系统

一般由冷水塔，冰水机，水泵等组成。

10.工控系统

真空镀膜系统

工艺气体输入系统

工艺气体，如气(Ar)、气(Kr)、氮气(N2)、(C2H2)、(CH4)、氢气(H2)、氧气(O2)等，一般均由气瓶供应，经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀，然后通入真空室。这种气体输入系统的优点是，管路简捷、明快，维修或更换气瓶容易。各涂层机之间互不影响。也有多台涂层机共用一组气瓶的情况，这种情况在一些规模较大的涂层车间可能有机会看到。它的好处是，减少气瓶占用量，统一规划、统一布局。缺点是，真空镀膜，由于接头增多，使漏气机会增加。而且，各涂层机之间会互相干扰，一台涂层机的管路漏气，有可能会影响到其他涂层机的产品质量。此外，更换气瓶时，必须保证所有机台都处于非用气状态。

如何选择真空镀膜设备供应商

抽真空系统，真空镀膜哪里有，目前基本是两种，一种是扩散泵系统，一种是分子泵系统，分子泵系统属于清洁抽气系统，没有扩散泵的返油现象，抽速也相对比较稳定，而且比较省电，电费的支出是镀膜企业生产运营成本中很大的一环。对于泵系统的定期维护是很重要的，特别是润滑油的定期更换，注意油品牌号的选择，选择错误很容易损坏真空泵。