真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。主要是分成蒸发和溅射两种。在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。
真空镀膜机如何选型选用真空泵时，需要注意下列事项：
真空泵的工作压强应该满足真空设备的极限真空及工作压强要求。
如:真空镀膜机要求1x10-5mmHg的真空度， 选用的真空泵的真空度至少要5x10-6mmHg.真空镀膜机对于真空度的极限要求和工作压力强度要求越来越大，对真空泵的抽真空能力要求就越高，电子纳米镀膜设备，通常选择泵的真空度要高于真空设备真空度半个到一个数量级。
真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了金属分子沉积于基片上，饰品纳米镀膜设备，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
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