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在镀膜领域,镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。薄膜的成膜过程,东凤化学气相沉积,是一个物质形态的转变过程,不可避免地在成膜后的膜层中会有应力存在,对于多层膜来说有不同膜料的组合,各膜层体现出的应力是有所不同的,有的是张应力、有的是压应力,还有膜层及基片的热应力。
真空镀膜就是于真空室内,采用一定方法使材料凝聚成膜的工艺。在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,低压化学气相沉积,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。 广义的真空镀膜还包括在属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。
真空镀膜加工工艺中,要求装配到高真空环境的零件,事先都需要小心地进行清洗处理,多功能化学气相沉积,否则各种污染物可成为大量气体和蒸气的来源,会大大延长真空器件的排气时间,不易获得高真空。
真空镀膜表面的清洗非常重要,直接影响镀膜产品的质量。在进入镀膜室之前,工件须在镀膜前仔细清洗。真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。
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