9，去胶:湿法去胶，用溶剂、用NONG***。负胶，98%H2SO4+H2O2+胶=CO+CO2+H2O，正胶：BIN酮，干法去胶（ash）氧气加热去胶O2+胶=CO+CO2+H2O，等离子去胶Oxygenpla***a ashing，NR9 3000P光刻胶，高频电场O2---电离O- + O+， O+活性基与胶反应CO2，NR9 3000P光刻胶哪家好，CO， H2O， 光刻检验
光刻胶
北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY，NR9 3000P光刻胶公司，此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线（366纳米）***工具。当显影后NR9-3000PY显示出负的侧壁角度，是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势： 
光刻胶底膜处理：清洗：清洁干燥，NR9 3000P光刻胶厂家，使硅片与光刻胶良好的接触。烘干：去除衬底表面的水汽，使其干燥，增粘处理(涂底)： 涂上增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物，HMDS，光刻胶疏水，Sio2 空气中，Si-OH， 表面有，亲水性，使用HMDS （H2C）6Si2NH 涂覆，熏蒸 与 SI –OH结合形成Si-O-Si(CH2)2，与光刻胶相亲。
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