光刻胶可以分为哪几类
光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，NR29 25000P光刻胶厂家，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶。反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。
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硅片模具加工如何选择光刻胶呢？
注意事项：
①若腐蚀液为碱性，NR29 25000P光刻胶，则不宜用正性光刻胶；
②看光刻机型式，NR29 25000P光刻胶哪里有，若是投影方式，用常规负胶时氮气环境可能会有些问题
③负性胶价格成本低，正性胶较贵；
④工艺方面：负性胶能很好地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；
⑤健康方面：负性胶为有机溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，对健康、环境无害。
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光刻胶的应用
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模拟半导体（Analog Semiconductors）发光二极管（Light-Emitting Diodes LEDs）微机电系统（Microelectromechanical Systems MEMS）太阳能光伏（Solar Photovoltaics PV）微流道和生物芯片（Microfluidics & Biochips）光电子器件/光子器件（Optoelectronics/Photonics）封装（Packaging）
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