市场规模
中国半导体产业稳定增长，半导体产业向中国转移。据WSTS和SIA统计数据，负性光刻胶厂家，2016年中国半导体市场规模为1659.0亿美元，增速达9.2%，大于增长速度（1.1%）。2016年中国半导体制造用光刻胶市场规模为19.55亿元，负性光刻胶公司，其配套材料市场规模为20.24亿元。预计2017和2018年半导体制造用光刻胶市场规模将分别达到19.76亿元和23.15亿元，贵州负性光刻胶，其配套材料市场规模将分别达到22.64亿元和29.36亿元。在28nm生产线产能尚未得到释放之前，ArF光刻胶仍是市场主流半导体应用广泛，需求增长持续性强。近些年来，半导体厂商在中国大陆投设多家工厂，如台积电南京厂、联电厦门厂、英特尔大连厂、三星电子西安厂、力晶合肥厂等。诸多半导体工厂的设立，也拉动了国内半导体光刻胶市场需求增长。
NR9-3000PY
四、对准（Alignment）
光刻对准技术是***前的一个重要步骤作为光刻的三大技术之一，一般要求对准精度为细线宽尺寸的 1/7---1/10。随着光刻分辨力的提高 ，对准精度要求也越来越高 ，例如针对 45am线宽尺寸 ，对准精度要求在5am 左右。
受光刻分辨力提高的推动 ，对准技术也经历 迅速而多样的发展 。从对准原理上及标记结 构分类 ，负性光刻胶报价，对准技术从早期的投影光刻中的几何成像对准方式 ，包括视频图像对准、双目显微镜对准等，一直到后来的波带片对准方式 、干涉强度对准 、激光外差干涉以及莫尔条纹对准方式 。从对准信号上分 ，主要包括标记的显微图像对准 、基于光强信息的对准和基于相位信息对准。
光刻胶稳定性
化学稳定性：在正常储存和操作条件下，在密闭容器中室温稳定。
避免的条件: 火源、湿气、过热的环境。
不相容的其他材料: 强氧化剂。
光刻胶毒理资料
淡***液体，气味微弱。引起皮肤、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状。液体是可燃的。
毒性数据
皮肤：可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状，类似于吸入。长时间或重复接触可引起轻度至中度的刺激或皮炎。
眼睛：引起眼睛发炎。
吸入：吸入时可能***。引起呼吸道刺激。蒸气可能导致困倦和头晕。
摄食：吞食***。
延迟效应：肝和损害，以及动物实验中有报道血液和GU髓有影响。
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