真空镀膜设备选购因素
1、真空系统由机械泵、扩散泵、增扩泵、油增压泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。
2、根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
3、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。
真空镀膜机的镀膜性能
（1） 金属外观
（2） 均色
（3） 耐用表面，在各种基本空气和阳光直射环境条件下保持良好外观。
（4） 颜色深沉明亮
（5） 它是经济的，金属真空镀膜设备，并且可以减少清洁和抛光电镀黄铜或金所需的时间和成本。
真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，真空镀膜设备厂商，磁控溅射，五金配件真空镀膜设备，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，东升真空镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。
磁控溅射镀膜机
各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高，电影制作材料的选择范围也大大扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。
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