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杂质捕获

随着现代分析仪器的发展，国外对高纯气体的分析经历了离线分析(off-line)、在线分析(on-line)和原位分析(in-situ)三个阶段。我国在高纯气体分析方面，也已进入在线分析阶段，且分析检测的灵敏度高，可以实现气体中痕量金属杂质的分析测试 [3]。然而，由于一些气态样品不能直接导入分析仪器进行金属成分的测量，杂质捕获仪哪家好，一般需要把气体样品***行液体化，即将含有金属杂质的气体样品捕集到溶液中，以该溶液为样品，才能选定合适的检测手段进行分析。由于高纯气体中的金属杂质含量低至ppb至ppt级，因此，对测定时使用的取样方法(防止样品污染)、检测方法以及分析测试仪器(灵敏度和检测限等)均提出了更高的操作要求。本文综述了电子气体中金属杂质的一些捕集方法以及几种不同的检测方法。

电子气体中金属杂质的捕集

电子工业用气体统称电子气体，指在半导体及其它电子产品生产过程中所用到的高纯度气体，是微纳电子制造***安全战略产业的关键支撑材料，其广泛应用于大规模集成电路、液晶显示器、多晶硅和薄膜太阳能电池、新型电光源、光电半导体器件以及光纤通讯器件等电子行业 [1] [2] [3]。表1为一些电子工业生产中所常用到的高纯气体 [3]。

近年来，随着微纳电子***制程向大尺寸、窄线宽、高集成度、高均匀性和高完整性发展，对电子气体的纯度和一致性要求越来越高，除了应具有5 N (99.999%)以上纯度，还要求电子气体中的H2O、气体杂质(如O2、CO2、CO、CH4等)和金属杂质(如Al、Cr、Cd、Cu等)的指标达到ppb (10?9)至ppt (10?12)数量级，杂质捕获仪报价，气体的品质要求高度稳定且一致。电子气体的纯度对于半导体器件的质量与成品率影响很大，尤其是气体中的金属杂质，是使半导体产生漏电、晶格缺陷和断线的主要原因

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