塘厦镜片光学镀膜-仁睿电子科技-镜片光学镀膜成品

等离子溅射包括一系列已知技术，包括***等离子溅射和磁控溅射。一般概念来源于等离子体的产生。等离子体中的离子随后加速进入源材料，撞击出松散的高能源离子，镜片光学镀膜成品，然后溅射到目标光学元件上。尽管每种等离子溅射都有其的特性、优点和缺点，但由于它们有共同的操作概念，塘厦镜片光学镀膜，因此这些技术被组合在一起。与本部分讨论的其他镀膜技术相比，这一组中的差异要小得多。


不同镀膜技术的比较 (IAD：离子辅助沉积，IBS：离子束溅射，ALD：原子层沉积)蒸发沉积在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片***和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与本部分所述的其他技术相比，蒸发沉积可以容纳更大的镀膜机尺寸，而且通常更经济有效。


光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较***的技术，镜片光学镀膜加工，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。填充密度定义为薄膜固体部分的体积与薄膜的总体积(包括空隙和微孔)之比。对于光学薄膜，填充密度通常为0.75～1.0，部分为0.85～0.95，很少达到1.0。小于l的填充密度使所蒸发材料的折射率低于其块料的折射率。


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