显影腐蚀机-苏州晶淼半导体-鄂尔多斯显影

在硅片的清洗过程中，清洗液的温度是一个关键因素。合适的清洗温度能够加快油污的去除，得到较佳的清洗效果。当硅片浸到清洗液中，硅片上的油污产生膨胀，油污内部以及油污与硅片之间的作用力减弱，温度越高，油污膨胀越大，这种作用力就越弱，表面活性剂分子越容易将油污撬离硅片表面。同时，温度的变化可导致胶束本身性质和被增溶物在胶束中溶解情况发生变化。聚氧乙烯型表面活性剂的聚氧乙烯链（CH2CH2O）n在水中产生水合作用，与水分子中的氢形成氢键。温度升高，氢键减弱，有的甚至断裂，水合作用减小，鄂尔多斯显影，胶束易于形成，胶束的聚集数亦显著地增加，对油脂等污染物的增溶量增大，这种情况有利于硅片的清洗。当温度升高到60℃左右时，聚氧乙烯链（CH2CH2O）n加速脱水并产生卷缩，显影清洗，使胶束起增溶的空间减小，增容能力下降，清洗液由透明变成乳浊液，这一温度称做溶液的浊点温度。只有温度接近表面活性剂溶液的浊点温度时，增溶能力较强，因而清洗液的温度定在60℃比较合理。

设备特点:

1.设备清洗方式采用超声波清洗+旋转助洗方式，可有效清洗产品的盲孔难洗部位，达到预期效果

2.整机采用PLC控制，自动化程度高，清洗干燥过程中无需人工操作，有效减低了劳动强度，节省了人力资源

3.可设定多套清洗工艺，满足不同产品的清洗要求

4.主要工艺流程（配旋转洗兰）： 洗剂喷淋→洗剂超声清洗→超声漂洗→鼓泡漂洗→热漂洗→离心抛干+热风搅拌→热风循环干燥→真空干燥→静电消

清洗机，显影腐蚀机，用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过程及维护时生成或***的污染物；也可以适用于对工作油液的定期维护过滤，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，显影清洗机，从而保证液压系统设备的、可靠度和长寿命。

1.使用时若发现某设***置不能停住，而出现错误动作，应检查该处相应旋转编码器，联轴器是否松脱是否损坏。如机械臂对位不准，可重新***并录入数据。

2.上下左右大行程处均设有极限位置安全开关，若超越任何一处大行程则全机停止运行。此时需手动复位后，重新调校该行程开关或感应片即可解决。