真空镀膜-北京艾明坷公司-真空镀膜报价

真空镀膜系统

真空室

涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式，不锈钢材料制造、弧焊接、表面进行化学抛光处理，真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。

真空获得部分

在真空技术中，真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的，必须将几种泵联合使用，如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。

真空测量部分

真空系统的真空测量部分，就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样，没有一种真空计能测量整个真空范围，人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。如热偶计，电离计，皮拉尼计等。

电源供给部分

靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(RF)，常见的电源厂商有AE，ADL，真空镀膜哪里有，霍廷格等。

真空镀膜设备真空泵的选择

真空泵工作时产生的振动对工艺过程及环境有无影响。若工艺过程不允许，应选择无振动的泵或者采取防振动措施。

了解被抽气体成分，气体中含不含可凝蒸气，有无颗粒灰尘，有无腐蚀性等。选择真空泵时，需要知道气体成分，针对被抽气体选择相应的泵。如果气体中含有蒸气、颗粒、及腐蚀性气体，应该考虑在泵的进气口管路上安装辅助设备，如冷凝器、除尘器等。

真空泵在其工作压强下，应能排走真空设备工艺过程中产生的全部气体量。

真空设备对油污染的要求。若设备严格要求无油时，真空镀膜报价，应该选各种无油泵，如：水环泵、分子筛吸附泵、溅射离子泵、低温泵等。如果要求不严格，可以选择有油泵，加上一些防油污染措施，如加冷阱、障板、挡油阱等，也能达到清洁真空要求。

本信息由艾明坷为您提供，如果您想了解更多产品信息，您可拨打图片上的电话咨询，真空镀膜系统，艾明坷竭诚为您服务！

真空镀膜系统

离子蒸发及溅射源　

多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，真空镀膜，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了保证靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。