真空除气装置公司-真空除气装置-科创真空产品

真空除气炉的构成介绍

真空测量装置：采用复合真空计，真空除气装置，使测量更加准确。

加热烘烤组件：采用铠装管加热，包括工件托盘及支架，箱室顶部中心测温。功率：9.5千瓦，真空除气装置公司，控制精度：±1℃。

管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了必要的物质基础。

真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。

前级泵：选用涡旋干式真空泵，无油运行，可为真空箱室提供洁净的真空环境。

分子泵：选用脂润滑复合分子泵，可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。

管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了必要的物质基础。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

真空除气储存柜

本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，均可***工作。

加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，真空除气装置品牌，发热体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现良好的温度均匀性。具有使用寿命长、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310S）板材料，并且焊接多道加强筋以保证不变形。