ParyleneF的成膜原理与其它Parylene原料类似，ParyleneF薄膜的制备需在的真空涂覆设备上进行，设备主要由升华炉、裂解炉、沉积腔室、冷阱和真空系统几部分组成。成膜过程也包括如下3个步骤：(1)固体环二体在一定温度下升华为气态环二体；(2)在较高温度下气态环二体裂解为活性单体自由基；(3)单体自由基进入沉积腔室后，在基体表面沉积聚合形成均匀并与物体形状一致的ParyleneF薄派瑞林F粉有耐高温的性能，避免LED产品长期工作时出现的表面发黑，严重光衰，颜色漂移等现象的发生，近年来越来越多的LED显示屏、LED灯板产品选用派瑞林F粉来进行镀膜。
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