parylene 耐温-菱威真空镀膜派瑞林

1、派瑞林真空镀膜设备有效应用于磁性材料领域，派瑞林的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型或者超小型磁材，几乎都采用派瑞林镀膜工艺作绝缘和防护涂层。

2、派瑞林真空镀膜设备有效应用于印制电路组件和元器件领域，镀膜材料通过派瑞林真空镀膜设备使得活性的对二双游离基小分子气在印制电路组件表面沉积聚合完成。气态的小分子能渗透到包括贴装件下面任何一个细小缝隙的基材上沉积，形成分子量约50万的高纯聚合物。

3、派瑞林真空镀膜设备有效应用于微电子集成电路领域，派瑞林的真空气相沉积工艺不仅和微电子集成电路制作工艺相似，而且所制备的派瑞林涂层介电常数也低，还能用微电子加工工艺进行刻蚀制图，进行再金属化，因此派瑞林（Parylene）不仅可用作防护材料，而且也能作为结构层中的介电材料和掩膜材料使用，parylene真空涂装，经派瑞林（Parylene）涂敷过的集成电路芯片，其25um细直径连接线，连接强度可提高5-10倍。

       钕铁硼稀土磁性材料是一种问世不久的新型强磁材料。目前国内常用两种方法进行防护，一种是传统的电镀工艺在 铁硼磁性材料表面镀上镍、锌或锡、金等。这些涂层有时会影响磁性材料的表磁等特性，有的在盐雾试验时仍不能对钕铁硼磁性材料提供有效的防护。另一种方法是用环氧树脂材料进行电泳涂敷，但电泳涂敷时工件表面必须有一挂点，挂点的修补不仅费工费时，而且质量难以保证，而Parylene涂层技术可控制涂层厚度进行无支点全涂敷防护。派瑞林（Parylene）又是一种透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，高州parylene，目前国外小型钕铁硼稀土磁性材料都已采用派瑞林（Parylene）进行防护。

       用制备派瑞林的方法是化学气相沉积法(CVD)，反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程为环状二聚体在高温下两个相连碳碳键断裂，生成具有活性的对二亚苯单体，当其从高温环境进入室温环境的沉积室时，不稳定的单体就会聚合成膜。整个制备工艺过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。

        不导电（NCVM）镀膜设备NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。真空电镀，简称 vm， 是vacuum metalization的缩写。它是指金属材料在真空条件下，运用化学和物理等特定手段进行有机转换，parylene 涂层，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。

        进口不导电（NCVM）镀膜设备应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜（NCVM）。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高，独有镀透电极设计，parylene 耐温，配置石英晶振，可控制任何膜层厚度，拥有的工件架技术，转速平稳可调，产量大且良品率高。