等离子清洗设备的原理是在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，怎么亲水处理，利用射频电源产生的高压交变电场将氧、、氢等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁活化的目的。是清洗方法中为的剥离式清洗，其大优势在于清洗后无废液，大特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地处理，基片亲水处理，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗
亲水性和疏水性主要是看该物质所携带的化学基团.
比如说氨基酸：
氨基酸的亲疏水性是指氨基酸的化学特性，香港亲水处理，主要由其侧链基团决定.
看亲水基团所占的体积多少，超亲水处理，多的亲水性就强，反之，疏水性也一样.
亲水的：羧基、磺酸基、***基、磷酸基、氨基、季铵基、含氧基团、醚基、羟基
其余的基本等都是疏水基团.
而亲水性和疏水性的区别主要是和水的亲和性，以及在化学反应中物质反应的难易程度以及反应基团的***.
硅表面疏水性处理微观机理与亲水性处理机理相似，硅表面成为疏性的基本条件为B=A=r（SL）- r（SG）＞0
硅片表面必须由高能转化为低能表面。从上式可以看出:完成上述转化的条件为或者使 r（SG）下降，或者r（SL）上升。方法还是改变其表面结构，使 r（SG）减小。硅片经过特殊清洗液洗时，表面形成的自然氧化膜腐蚀掉，Si几乎不被腐蚀。硅片外层的Si儿乎以H键为终端结构，表面呈疏水性。
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