湿法清洗 ：
湿法清洗采用液体化学溶剂和DI水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有RCA清洗法、稀释化学法、 IMEC清洗法、单晶片清洗等。
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清洗的设备仪器
主要以湿法清洗为主，以下是与湿法清洗相关的设备仪器。清洗机：循环去离子(DI)水，对蓝宝石进行冲洗；形成局部通风区域，对清洗过程产生的***腐蚀性气体进行及时排除。
苏州晶淼半导体设备有限公司的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、led等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。 我们的每台设备除标准化制作外，还可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求，对设备进行人性化、个性化设计，极大限度的将客户的想法转化为实际应用。能完全满足规模化生产和研发需求。
随着工业自动化的进步和劳动力成本的增加，干冰清洗设备下业进入新一轮景气周期从而带来干冰清洗设备市场需求的膨胀，干冰清洗设备行业的销售回升明显，供求关系得到改善，行业盈利能力稳步提升。同时，在***“十二五”规划和产业结构调整的大方针下，干冰清洗设备面临巨大的市场***机遇，行业有望迎来新的发展契机。
与喷钢砂，喷玻璃砂，喷塑料砂和喷苏打相似，干冰喷射介质干冰颗粒在高压气流中加速，冲击要清洗的表面。干冰清洗的特别之处在于干冰颗粒在冲击瞬间气化。干冰颗粒的动量在冲击瞬间消失。干冰颗粒与清洗表面间迅速发生热交换。致使固体CO2迅速升华变为气体。干冰颗粒在千分之几秒内体积膨胀近800倍，这样就在冲击点造成“微型·”。由于CO2挥发掉了，干冰清洗过程没有产生任何二次废物，留下需要收集清理的只是清除下来的污垢。
