从这一原理图中不难看出，真空电镀工艺过程是由膜材在蒸发源表面上的蒸发、蒸发后的粒子（主要是原子）在气相中的迁移、到达基片表面上通过吸附作用在基片表面上凝结生成薄膜等三个过程所组成。这种工艺过程创造一个良好成膜条件是十分必要的。真空电镀
真空电镀工艺主要是通过加热器把膜材蒸发、蒸发的膜材原子或分子迁移吸附到基体表面的成膜工艺，因此根据膜材的种类不同大体可分为金属膜的真空电镀、合金膜的真空电镀及化合物的真空电镀这三大类。
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真空电镀
PVD真空电镀设备生产厂家PVD真空电镀是使用电解办法对零件进行表面加工的一种工艺。PVD真空电镀时零件是阴极，镀液中的金属离子在直流电的效果下沉积在零件表面构成均匀、细密的金属镀层。PVD真空电镀必需的条件是外加直流电源，镀液和镀件及阳极组成电解设备。
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