半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括***金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、xi菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
单晶圆清洗(SWC)系统，晶圆清洗，用于***的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，晶圆清洗台，通过分布能量的***大化支持的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
主要清洗参数为：1、材质：槽体为全不锈钢制作，镇江晶圆，耐酸耐碱，外形美观大方。2、机型：可根据客户要求加工定制。3、功率、频率：可调，采用超声波发生器，晶圆腐蚀台，能量转换率高。4、温控：常温0-110℃可调。5、支架可根据要求和实际需要定制。
清洗设备分类
清洗设备是指废旧塑料瓶、塑料薄膜等废旧塑料经过清洗、烘干、加工制作成重新再利用的机械设备。
清洗设备分为:pet瓶片清洗设备、不锈钢成套清洗设备、塑料清洗设备、新型清洗设备、小型清洗设备、中型清洗设备等。
Pet瓶片清洗设备是指全自动聚酯(如矿泉水瓶、苏打水瓶)片料回收清洗、脱水、干燥生产线，pet瓶片清洗设备(饮料瓶片清洗机设备、pet清洗机组)该生产线月产量可达300-1200吨，自动化程度高，从破碎、输送、清洗、漂洗、脱水、干燥一体化。
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