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广东省科学院半导体研究所

普通会员4
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:广东 广州
联系卖家:曾经理
手机号码:15018420573
公司官网:www.micronanolab.com
企业地址:广州市天河区长兴路363号
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企业概况

广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,其前身是2010年10月在成立的广东半导体照明产业技术研究院。2015年6月经省政府批准,由原广东省科学院、广东省工业技术研究院(广州有色金属研究院)、广东省测试分析研究所(中国广州分析测试中心)、广东省石油化工研究院等研究院所整合重组新广......

氧化铪真空镀膜加工平台-河北真空镀膜加工平台-半导体微纳

产品编号:1000000000024912435                    更新时间:2023-05-20
价格: 来电议定
广东省科学院半导体研究所

广东省科学院半导体研究所

  • 主营业务:深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻
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产品详情





真空镀膜加工平台MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。

真空镀膜机溅射溅射工艺介绍

真空镀膜机溅射溅射工艺主要用于溅射刻蚀和薄膜沉积两个方面。溅射刻蚀时,被刻蚀的材料置于靶极位置,受离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。溅射刻蚀时,应尽可能从溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体,使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体,通过真空系统从溅射室中排出。沉积薄膜时,溅射源置于靶极,受离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的,则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜;若在溅射室内有意识地引入反应气体,使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底,氧化铪真空镀膜加工平台,便可形成靶极材料的化合物薄膜。

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哪些溅射靶材可用于热反射镀膜


银溅射靶材

银是一种柔软、有光泽的元素,属于元素周期表中金属的过渡族。它的熔点为 962 ℃,钼金属真空镀膜加工平台,密度为 10.5 g/cc,在 1,105 ℃ 时的蒸气压为 10-4 Torr。自古以来,银就被用于无数产品中。它具有延展性、延展性,并且是所有金属中导电性强的。它被认为是一种,可以在珠宝、焊料、油漆和镜子中找到。它在真空下蒸发以生产半导体、传感器、燃料电池和光学涂层

镍溅射靶材

镍是一种银白色有光泽的金属,略带金色。广泛用于海绵镍和装饰涂料的生产。当在真空中蒸发时,镍可以在陶瓷表面或电路设备制造中形成焊料层。它经常被溅射以在磁存储介质、燃料电池和传感器中创建层。AEM 提供高纯度和细晶粒的镍溅射靶材。同等条件下,涂膜比同类产品更均匀,涂膜面积增加10%~20%。

铜溅射靶材

铜是一种延展性金属,具有非常高的导热性、导电性、延展性、耐腐蚀性。新暴露的纯铜表面呈红橙色。高纯铜在电子电气工业中用作各种线材、电子封装的键合线、音频线和集成电路、液晶显示器溅射靶材、离子镀等。它也是原子能、火箭、、航空、航天导航和冶金工业中不可缺少的宝贵材料。AEM根据要求提供高纯度OFC、白铜和合金产品。




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距离与速度及附着力

为了得到的沉积速率并提高膜层的附着力,在保证不会***辉光放电自身的前提下,基片应当尽可能放置在离阴极近的地方。溅射粒子和气体分子(及离子)的平均自由程也会在其中发挥作用。当增加基片与阴极之间的距离,碰撞的几率也会增加,这样溅射粒子到达基片时所具有的能力就会减少。所以,为了得到的沉积速率和的附着力,基片必须尽可能地放置在靠近阴极的位置上。




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氧化铪真空镀膜加工平台-河北真空镀膜加工平台-半导体微纳由广东省科学院半导体研究所提供。广东省科学院半导体研究所是从事“深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻”的企业,公司秉承“诚信经营,用心服务”的理念,为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询!联系人:曾经理。

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