微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，生物芯片光刻工艺平台，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
光刻机又被称为：掩模对准***机、***系统、光刻系统等。
每颗芯片诞生之初，都要经过光刻机的雕刻，精度要达到头发丝的千分之一，数字光刻工艺平台，如今，全世界能够生产光刻机的***只有四个，中国成为了其中的一员，紫外光刻工艺平台，实现了从无到有的突破。光刻机又被称为：掩模对准***机、***系统、光刻系统等。常用的光刻机是掩模对准光刻，所以它被称为掩模对准系统。它指的是通过将硅晶片表面上的胶整平，然后将掩模上的图案转移到光刻胶，将器件或电路结构暂时“复i制”到硅晶片上的过程。它不是简单的激光器，但它的***系统基本上使用的是复杂的紫外光源。光刻机是芯片制造的中心设备之一，根据用途可分为几类：光刻机生产芯片；有光刻机包装；还有一款投影光刻机用在LED制造领域。
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光刻掩膜版清洗一般使用掩膜版清洗液，是有专门的额清洗机器的。首先将掩膜版放入掩膜版清洗机一边冲洗一边旋转，将污染颗粒冲洗干净，之后在高速旋转烘干。目前而言，掩膜版清洗机可以清洗的掩膜版尺寸包括3寸，4寸，5寸，6寸的掩膜版。
光刻是一门比较综合的技术，它采用照相复印的技术，将光刻掩膜版上的图形在涂有光刻胶的金属蒸发层上。如果掩膜版受光刻胶污染，很大程度上会影响***，河南光刻工艺平台，带来影响，因此光刻过程中需要保持掩膜版的干净。
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一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准***、后烘、显影、硬烘等工序。
通常来说，在使用工艺方法一致的情况下，波长越短，加工分辨率越佳。静态旋转法：首先把光刻胶通过滴胶头堆积在衬底的中心，然后低速旋转使得光刻胶铺开，再以高速旋转甩掉多余的光刻胶。在高速旋转的过程中，光刻胶中的溶剂会挥发一部分。静态涂胶法中的光刻胶堆积量非常关键，量少了会导致光刻胶不能充分覆盖硅片，量大了会导致光刻胶在硅片边缘堆积甚至流到硅片的背面，影响工艺质量。
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