溅射原子在基片外面堆积成膜。与蒸发镀膜分歧，溅射镀膜不受膜材熔点的限定，可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物资。溅射化合物膜可用反响溅射法，行将反响气体份子束内涵法普遍用于制作各类光集成器件和各类超晶格布局薄膜。
(O、N、HS、CH等)参加Ar气中，反响气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反响天生化合物（如氧化物、氮化物等）而堆积在基片上。
为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，广东真空光学镀膜，称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展，真空光学镀膜厂商，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，而且可以应用于塑料制成的基底。图19.11展示一个操作者正在光学镀膜机前。抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、IAD沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。
常见镀膜种类包含增透膜，宽带增透膜，介质高反膜，金属反射膜，真空光学镀膜定制，金属加强膜，金属导电膜，真空光学镀膜厂，透明导电膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透+防水膜，高反+防水膜等等。根据产品需求可进行膜层选择。常见选用的镀膜材料一般是氟化镁、二氧化硅、氧化锆等其透光度约为85%左右。若加上一层镀膜（折射率1.5），则透光度可达91%。可见光学镀膜的重要性。
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