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退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中,例如氧化,或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉,超节能结构,采用纤维结构,节电60%。
今天小编来讲述一下远红外线隧道炉广泛运用于哪些领域。
如今的科技在飞快发展,首先远红外线隧道炉单单运用在电子产品上的领域是广泛之一;我们比如说电路板、变压器、电感线圈等这些都是电子电器的一部分,像这些部件零件的生产过程是要运用到远红外线隧道炉的。我们还比如说电镀的生产,所谓的电镀就是利用电解原理在一些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀),