真空镀膜机设备真空镀膜机系统特点
真空镀膜机在等离子体束溅射中，溅射离子均匀刻蚀靶面，并且不会使靶面产生氧化。与磁控溅射相比，其中的等离子体束是由射频等离子体源产生的，磁场的作用则是使等离子体束会聚并偏转至靶面，因此，虽然等离子体束溅射镀膜系统内也有磁场，但其磁场却并不控制影响溅射，这也摒弃了磁控溅射中由磁场不均匀带来的“磁控”的缺点。在溅射完成后，所得的靶材利用率可高达90%以上。
真空镀膜机即分别进行磁控溅射和等离子体束溅射之后靶面刻蚀的对比图。由于靶材的利用率大幅度提高，也解决了磁控溅射中所难以克服的缺点，即靶中的毒导致的刻蚀不均匀
真空镀膜机此外，磁控溅射由于背面磁铁磁场不均匀而产生溅射跑道，非磁场约束区很容易产生氧化，因此很难沉积铁磁性材料，而等离子体束溅射中由于不用磁铁作为等离子体约束，能够进行铁磁性材料的镀膜，并且可以使用很厚的靶材，图3中实验金属钴的厚度即为6mm。对于铁、镍、铬以及铁磁性化合物，等离子体束溅射也都具有很高的溅射速率。
应用该项镀膜技术的系统还有一个优点，当将电磁线圈的极性反接时，由于磁场的方向产生了变化，等离子体束会在磁场的作用下轰击基片，从而对基片产生清洗作用,如图4所示。这实际上可以使得应用该项技术的镀膜机省略常规镀膜机的清洗用离子源。
真空镀膜机PVD镀膜常规知识介绍
真空镀膜机PVD技术可以应用到海上用品、首饰、工艺品、门窗五金、厨卫五金、灯具、海上用品、首饰、工艺品，及其它装饰性制品的加工制造，应用是非常的广泛，很多客户采购设备时，对这方面的相关知识也是非常的感兴趣，今天至成真空小编，为大家介绍一下真空镀膜机PVD镀膜常规知识，希望能帮助大家提升相关知识和技能。
PVD镀膜(离子镀膜)技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
PVD镀膜膜层的特点,采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
真空镀膜机PVD镀膜技术目前主要应用的行业,PVD镀膜技术的应用主要分为两大类：装饰镀膜和工具镀膜。装饰镀的目的主要是为了改善工件的外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命;这方面主要应用五金行业的各个领域，如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。工具镀的目的主要是为了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命;这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具(如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等)、各种五金工具(如螺丝刀、钳子等)、各种模具等产品中
中频磁控 多弧离子溅射镀膜机特点
中频磁控 多弧离子溅射镀膜机具有：结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于切削刀具如齿轮滚刀，插刀，铣刀，钻头等表面沉积超硬涂层，也可用于钟表，眼镜架，手机壳、锁具，洁具等各类小五金表面沉积装饰涂层，本设备可实现一机多用沉积多种膜层，膜层细腻，有纯钛（Ti）氮化钛（TiN）氧化钛（TiO）纯锆（Zr）氮化锆（ZrN）碳化钛（TiC）纯铬（Cr）氮化铬（CrN）碳氮化钛（TiCN）氮化铝钛（TiAlN），PVD镀膜膜层目前常见的颜色主要有：深金***，浅金***，咖啡色，古铜色，***，黑色，灰黑色，七彩色,蓝色等。亮度好，饱满度好
至成真空科技可以根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。
