创世威纳科技公司-大样片离子束刻蚀机

离子束刻蚀机的特点

刻蚀过程是纯物理溅射，大样片离子束刻蚀机价格，可以刻蚀任何固体材料;平行离子束刻蚀，高各向异性;无钻蚀;精度高，分辨率lt;0.01um.

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离子束刻蚀机

离子束是指以近似一致的速度沿几乎同一方向运动的一群离子。离子源用以获得离子束的装置。在各类离子源中，用得较多的是等离子体离子源，即用电场将离子从一团等离子体中引出来。这类离子源的主要参数由等离子体的密度、温度和引出系统的质量决定。属于这类离子源的有:潘宁放电型离子源射频离子源、微波离子源、双等离子体源、富立曼离子源等。另一类使用较多的离子源是电子碰撞型离子源，主要用于各种质谱仪器中。

离子属刻蚀机的注意事项

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#.在设备工作时，禁止扶、靠设备，大样片离子束刻蚀机，禁止触摸高频电缆和线圈，以免发生意外

#.高频电源实际使用功率不能超过较大限制#.检查设备时，必须关机后切断电源

#. 工作场地必须保持清洁、干燥，设备上及设备周围不得放置无关物品，特别是易1燃、易1爆物品

#.长期停放时注意防潮，拆除电源进线，大样片离子束刻蚀机厂家，每隔3-5天开一次机，保证反应室真空以免被污 染

#.设备停机、过夜也要保持反应室真空，大样片离子束刻蚀机生产厂家，如停机较长时间后再进行刻蚀工艺，需***行一次空载刻蚀，再刻蚀硅片