多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备
多弧磁控溅射多功能离子镀膜备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿腊、装饰腊、合金膜或多层腊，可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、器械、仪器仪表等领域。
多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备在真空条件下采用物***相沉积技术，在基片上镀制氮化钛及其它薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控油射离子镀技术有机结合在一起，可单独使用或同时使用，制取含有连续过渡层的各种膜层。
多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备制造简单，使用方便，运行成本低无污染，经济效益高。其双真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大节省***。
多弧溅射在靶材上施小电压大电流的作用
多弧溅射在靶材上施小电压大电流使材料离子化（带正电颗粒），从而高速击向基片(负电)并沉积，形成致密膜坚硬膜。主要用于耐磨耐蚀膜。中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳极,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳极阴极的安排有关,参与的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的溅射产额,得到不相同的离子密度中频溅射主要技术在于电源的设计与应用,目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出,各有其优缺点,首先应考虑膜层种类,分析哪种电源输出方式适合哪种膜层,可以用电源特性来得到想要的膜层效果.中频溅射也是磁控溅射的一种,一般真空镀膜机磁控溅射靶的设计,磁场的设计是各家技术的***,国际几个有名的溅射靶制造商,对靶磁场的设计相当***,改变磁场设计能得到不相同的等离子体蒸发量.电子的路径,等离子体的分布.关于阴极弧（也就是离子镀），磁控溅射，以及坩埚蒸发都属于PVD（物***相沉积），坩埚蒸发主要是相变，蒸发靶材只有几个电子伏特的能量。
离子真空镀膜机镀膜产品表面防腐方法是怎样的呢？
离子真空镀膜机镀膜产品表面大多采用过渡族金属（如Ti、Zr、Cr）或其合金的氮、碳、氧的化合物，还有用非晶碳（类金刚石）膜的。一般来说，这些化合物本身的化学惰性比较高，耐腐蚀性能很好。但是一些装饰镀层产品包括表件、手机壳、高尔夫球头等，却未能通过人工汗腐蚀试验或中性盐雾腐蚀试验。装饰镀层产品的腐蚀不单是镀层本身的耐蚀性问题，还包括装饰镀层 基体的系统腐蚀问题。许多研究工作都表明离子镀装饰镀层自身耐蚀性好，它镀在金属（如不锈钢）基体上，对基体整体均匀抗腐蚀能力有提高，但装饰镀层很薄，不可避免地存在表面缺陷﹐如微裂纹、微孔、孔、柱状晶界、电弧沉积的宏观颗粒等。腐蚀介质可通过这些缺陷所形成的通道，穿过镀层到达基体。
