脆性，难熔的金属材料，高纯钯颗粒 加工可定制，我公司采用高纯度粉末为原料，通过热压、烧结、热等静压等工艺成锭，经过热处理，机械处理及精密的机加工工艺，制得晶粒细小（其平均晶粒尺寸lt;100μm），***均匀，致密度高的高品质靶材。
图1高纯铬靶 图2高纯钨靶 图3高纯铌靶
常规产品如下：
商品名称纯度(%)常规尺寸
高纯铬 靶材99.5 99.95常规现货靶材尺寸：φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm
靶材常规厚度2-6mm
可定制加工不同尺寸的圆靶、方靶
高纯钨 靶材99.95 99.999
高纯钼 靶材99.95 99.99
高纯钽 靶材99.95 99.99
高纯铌 靶材99.95 99.99
半导体化合物材料
我们可提供半导体行业所需常用氧化物，硒化物，高纯钯，锑化物，硫化物，碲化物等。
氧化物:氧化锌 氧化铟 氧化铋 氧化碲
硫化物:硫化锌 硫化钨 硫化钼 硫化锡 硫化锑 硫化锗 硫化银
硒化物:硒化锌 硒化铋 硒化锗 硒化镉 硒化锑 硒化锡 硒化铟 硒化钨
锑化物:锑化铋 锑化锡 锑化铟
碲化物:碲化铜(CuTe) 碲化铟 InTe 碲化锌(ZnTe) 三碲化二铋(Bi2Te3)，二氧化碲(TeO2). 碲化锑 碲化锌 碲化锗
多元化合物:铜铟硒 铜锌锡硫 锗锑碲
纯度：99.99-99.9999
状态：粉末 颗粒
可根据需求，定制不同比例的靶材
定制化生产是宏钜金属的一大特色。以***的生产设备，规范的加工流程，经验丰富的技术人员为后盾，我们可定制化生产加工不同纯度规格尺寸的产品。
高纯箔材片材：厚度0.01-3.00mm
高纯丝材棒材：直径0.01-10mm
坩埚蒸发耗材：钨，钼，科研用高纯钯颗粒 钯块，钽，高纯钯 溅射靶材颗粒，石墨，氮化硼等坩埚，各尺寸蒸发线圈。蒸发舟。
单晶衬底基片：不同尺寸，电阻单晶硅片。石英衬底，金属单晶基片
高纯钯颗粒 加工可定制-宏钜金属-高纯钯由河北宏钜金属材料有限公司提供。高纯钯颗粒 加工可定制-宏钜金属-高纯钯是河北宏钜金属材料有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：张一。
