离子真空镀膜机镀膜工艺及镀膜产品表面防腐方法
不锈钢基材通常会用抛光、拉丝、喷砂、化学蚀刻、激光雕刻、数控机床雕刻等作表面美工处理，有的还用激光焊接，水法电镀镍铬层等。那么离子真空镀膜机启到了很关键的作用，今天至成小编为大家讲解一下离子真空镀膜机镀膜工艺及镀膜产品表面防腐方法。
其实大家都知道，以上介绍几种不锈钢基材表面处理方法，各自有各自的优势和劣势。如：抛光作业会在工件上残留难以去除的硬化了的抛光蜡；尼龙轮拉丝在拉丝沟上会残留透明的不易发现的高分子化合物；砂轮拉丝可能残留磨粒和粘结剂，或因摩擦过热产生氧化皮；喷砂会有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化铝砂粒残留镶嵌在表面上；化学蚀刻会有腐蚀产物残留在腐蚀坑内，或在其它非腐蚀表面上残留用于防腐蚀的保护物质；激光雕刻处理会产生高温氧化皮和烧蚀基体碎片残留；数控机床雕刻会有高温氧化皮和切削油残留，还会有基材碎片被压入基体上；激光焊接也会导致高温氧化等；水法电镀铬层会生成难以去除的复杂氧化物，这些处理引起的污染不彻底清除会导致离子镀过程打火、镀层假附着、掉膜、颜色不均等不良。
在离子真空镀膜机镀产品中美工处理方式往往不是单一的，而是多种作业组合，这更增加了镀前清洗的困难。采用传统的超声去油除蜡的方法是不能胜任的，必须调整清洗工艺，对不同的污染，可选择机械清除、气相清洗﹑真空加热后再清洗、阴极电解﹑阳极电解、或采用针对性的***清洗剂等等。这些综合措施可取得较好的效果，但对有些污染仍未找到理想的解决办法。新近等离子体抛光方法应用到镀前清洗是值得关注的技术，该技术在某些镀层的褪镀取得良好效果。
多弧离子真空镀膜机镀膜技术
很多朋友问我关于多弧离子真空镀膜机真空技术方面的问题，当时给朋友解释了很多，今天至成小编为大家详细介绍一下：
多弧离子镀是采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光放电放出的阴极物质的离子，这种装置不需要熔池，被蒸发的靶材接阴极，真空室为阳极，当触发电极与阴极靶突然瞬间接触时，就会引起电弧，在阴极表面产生强烈发光的阴极弧光斑点，斑点直径在100?m以下，斑点内的电流密度可达103~107A/cm2于是在这一区域内的材料就瞬时蒸发并电离。阴极弧光斑点在阴极表面上，以每秒几十米的速度做无规则运动，外加磁场用来控制辉点的运动轨迹和速度，为了维持真空电弧，一般要求电压为–20到–40V。多弧离子镀的原理是基于冷阴极真空弧光放电理论，该理论认为，放电过程的电量迁移是借助于场电子发射和正离子电流这两种机制同时存在且相互制约而实现的。
在放电过程中，阴极材料大量蒸发，这些蒸汽分子产生的正离子，在阴极表面附近很短的距离内产生极强的电场，在这样强的电场作用下，电子以产生以场电子发射而溢出到真空中，而正离子可占总的电弧电流的10%左右，被吸到阴极表面的金属离子形成空间电荷层，由此产生强电场，使阴极表面上功函数小的点(晶界或裂痕)开始发射电子。个别发射电子密度高的点，电流密度高。焦耳热使温度上升又产生热电子，进一步增加发射电子。这个正反馈作用使电流局部集中。由于电流局部集中产生的焦耳热使阴极材料表面局部爆发性地等离子化，发射电子和离子，并留下放电痕。同时也放出熔融的阴极材料粒子。发射的离子中的一部分被吸回阴极表面，形成空间电荷层，产生强电场，又使新的功函数小的点开始发射电子。
光学镀膜技术在过去几十年实现了飞快的发展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术有以下三点：
一、渐变折射率结构薄膜技术与装备：
渐变折射率结构薄膜技术与装备:已经有大量研究工作已经证实Rugate***面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布，能设计出非常复杂的光谱性能，(部分)消除
了薄膜界面特征，(部分)消除界面效应，如电磁波在界面上比薄膜内部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力学稳定性。
二、磁控溅射光学镀膜系统
以LeyboldHelios和ShincronRAS为代表，磁控溅射技术及装备在精密光学领域和消费光电子薄膜领域占据越来越大的份额。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单，粒子能量高，获得的薄膜结构致密稳定。
三、间歇式直接光控：
间歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系统为代表，光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间。
