真空镀膜设备镀膜原理
为了获得真空，就必须用真空泵将灯管内的气体抽去，达到一定的真空度。但是获得了真空并不意味着真空就能保持。事实上，即使不存在漏气的灯管，在抽走管内气体之后，灯管的内壁、电极等表面上都仍然吸附着大量的气体：他们在一定的条件下会释放出来，使灯管内的真空度变底，所以在霓虹灯的制造过程中，还必须采用有关的真空技术把这些吸附气体除去，确保玻璃管内壁及灯管内器件不会在使用过程中放气，影响灯管的稳定工作及使用寿命。
所以，在霓虹灯制造中，真空镀膜设备真空技术是很重要的。灯管内真空的***可以由于抽气不彻底造成，或者由于温度升高导致本材料放气，电子、离子轰击使材料和电极放气造成，或者也可由管子的慢性漏气所造成。要得到质量稳定、实用的霓虹灯，必须在原材料的选择、零部件的加工、处理、电极的装配以及***后的排气、封离等每一步骤中都考虑到真空技术的特殊要求。
真空镀膜机玻璃阻断热辐射什么
据介绍，使用这一项目生产的低辐射镀膜中空玻璃窗，可比单层普通玻璃窗节能75％左右。我国的建筑物单位面积能耗是西方发达***的3倍以上，而玻璃窗能量损耗占整个建筑物能耗的50％左右，即每年通过玻璃窗损耗的能量相当于2.25亿吨标准煤，相当于21个三峡电站的年发电量。德国等西方发达***早在上世纪80年代就通过立法强制使用节能玻璃，以节约建筑耗能。
高性能的节能玻璃需要通过真空磁控溅射工艺在玻璃表面依次镀上厚度为纳米级的10多层金属和非金属薄膜，使玻璃对光谱具有选择性透过功能，能透过大部分可见光，不影响采光，又能阻挡红外、远红外、紫外光，阻断热辐射，生产技术极为复杂。大面积真空镀膜技术和以此为基础的镀膜设备制造业长期被国外至成真空科技垄断，单条生产线的技术引进和设备进口费用高达1.5亿元。
采用这一工艺生产的产品不仅克服了目前低辐射镀膜玻璃普遍存在的膜层易脱落、易氧化、不能热加工等不足，而且具有可钢化，镀层暴露在大气中3个月以上不氧化、可异地加工等优异性能。
真空镀膜机设备真空镀膜机系统组成
真空镀膜机等离子体束溅射镀膜机主要由射频等离子体源、真空获得系统、电磁线圈（发射线圈及汇聚线圈）、偏压电源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系统等部分构成。其显著特点是它的等离子体发生控制系统，其示意图如图1所示。等离子体发生控制系统是镀膜机中的关键部分，其中射频等离子体源位于真空室的侧面，并在等离子体源的出口处及溅射靶材的下方分别配置有一个电磁线圈。当两个线圈同向通过电流时，线圈合成的磁场将引导等离子体源中产生的电子沿磁场方向运动，从而使等离子体束被约束在磁场方向上。同时靶材加有负偏压，使溅射离子在电场的作用下加速撞击靶表面，产生溅射作用。
真空镀膜机等离子体发生控制系统
真空镀膜机这种镀膜机具有非常灵活的控制方式，例如溅射速率可以通过调节靶材偏压和改变等离子体源的射频功率这两种途径进行调节。等离子体发生装置与真空室的分离设计是实现溅射工艺参数宽范围可控的关键，而这种参数阔范围的可控性使得特定的应用能够获得优化的工艺参数。此外，还可以通过控制系统的真空度来进行溅射速率的调节。
真空镀膜机中所示曲线为靶电流与偏压曲线、恒定电流密度时溅射速率与靶偏压的关系，其中恒定电流时射频功率为500W。
