德国优尼藤***致力于制造真空热工艺处理设备，人性化的设计，桌面型/空间紧凑。在世界各大***大学实验室，研究所等机构广泛应用
RTP-100/RTP-100-HV真空快速退火炉
应用于4英寸的真空/高真空快速退火应用。
应用领域：
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离子注入/接触退火；
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快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN)；
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可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同气体氛围环境下使用；
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SiAu, SiAl, SiMo合金化；
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低介电材料；
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晶体化，致密化；
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太阳能电池片键合；
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电阻烧结
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其他热工艺需求
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等等...
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产品特点：
- 真空快速退火炉，有RTP-100型号 低真空(10-3 hPa)
RTP-100-HV 高真空(10-6 hPa)；
- 可应用在不同气氛环境下使用，如惰性气体、氧气、氢氮混合气等；
- 控制方式：SPS人机界面控制，7英寸触摸屏控制；
- 可存储50个程序，每个程序***多分为50步骤控制；
- 全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空度、冷却水均可自动设置；
- 优异的温控均匀性，***的工艺重复性；
技术规格：
- ***高温度：1200℃；
- 升温速率：150℃/秒；
- 降温速度：200℃/分钟 (1000℃-->400℃)；
- 温控均匀性：≤ 1.5%设定温度；
- 加热方式：红外卤素灯，顶部及底部加热，也可单独控制加热
- 灯管数量及功率：18支/20KW
- 腔体冷却：水冷方式，***冷却源
- 衬底冷却：氮气吹扫；
- 工艺气路：MFC控制，***多4路 (氮气、***气、氧气、氢氮混合气等)；