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韦氏纳米系统(深圳)有限公司

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First-NanoSystemGmbH2003年创立于德国德累斯顿工业大学(DresdenUniversityofTechnology)2008年香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司2015年上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务2018年深圳正式成立韦氏纳米系统(......

AT-400 原子层沉积

产品编号:121458924                    更新时间:2018-09-17
价格: 来电议定

韦氏纳米系统(深圳)有限公司

  • 主营业务:光学透镜和仪器,实验室器具,专用仪器仪表,电化学设备和部件
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产品详情

原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以***控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。

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