特点:
制定***佳的金属堆栈完整性
“改进”宽窗口处理能力
强化蚀刻残余物去除
清洗的掩膜减少化学残留
超大规模集成电路(ULSI)级规格***封装清洗
工作温度下蒸发速率低
First-NanoSystemGmbH2003年创立于德国德累斯顿工业大学(DresdenUniversityofTechnology)2008年香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司2015年上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务2018年深圳正式成立韦氏纳米系统(......
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特点:
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工作温度下蒸发速率低
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