





离子束刻蚀
离子束刻蚀以离子束为刻蚀手段达到刻蚀目的的技术,其分辨率限制于粒子进入基底以及离子能量耗尽过程的路径范围。离子束较小直径约10nm,离子束刻蚀的结构较小可能不会小于10nm。目前聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下,较以较快的直写速度进行小于50nm的刻蚀,故而聚焦离子束刻蚀是纳米加工的一种理想方法。此外聚焦离子束技术的另一优点是在计算机控制下的无掩膜注入,轰击离子束刻蚀机哪家好,甚至无显影刻蚀,直接制造各种纳米器件结构。但是,在离子束加工过程中,损伤问题比较突出,且离子束加工精度还不容易控制,控制精度也不够高。
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离子束刻蚀机
离子束刻蚀是通过物理溅射功能进行加工的离子铣。国内应用广泛的双栅考夫曼刻蚀机通常由屏栅和加速栅组成离子光学系统,其工作台可以方便地调整倾角,使碲镉gong基片法线与离子束的入射方向成θ角,并绕自身的法线旋转,如图1所示。评价沟槽轮廓主要的参数有沟槽的开口宽度We、沟槽的刻蚀深度H、台面的坡度角φ和沟槽底部的宽度Wb。我们常用的深宽比(Aspectratio)是指槽深H和槽开口宽度We的比值,本文中用R表示。深宽比是常用来作为衡量刻蚀工艺水平和刻蚀图形好坏的评价参数。


离子束刻蚀机的特点
刻蚀过程是纯物理溅射,轰击离子束刻蚀机多少钱,可以刻蚀任何固体材料;平行离子束刻蚀,轰击离子束刻蚀机,高各向异性;无钻蚀;精度高,分辨率lt;0.01um.
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