PET真空镀膜设备相关问题的解决方法
PET真空镀膜设备平均水消耗量为0.6m3/小时，每小时平均耗电：850W，每30天更换5次过滤芯，更换过滤芯数量20只，每天消耗过滤芯数量：0.7只，过滤芯可后级更换前级，更换周期也可根据具体情况延长。
设备在交付时会提供操作、调试、维修等一系列***技术资料，包括操作和维修手册。维修手册中含电路图、气路图、水管路图，并列出控制设备、控制元件、易耗品以及易磨损的部件名称、型号、规格、制造商或供应商，以便用户可以随时修理与维护清洗设备。
影响离子镀膜层质量的工艺参数
①基片偏压.
离子镀膜基片施加负偏压后；各种离子和高能中性粒子流以较高的能量轰击基片表面．基片负偏压的提高，会使基片表面获得更高的能量，可能形成伪扩散层，提高膜层与基体的附着力，还可以改变膜层的***、结构和性能，如细化晶粒，图2表明，随着基片负偏压的提高，膜层***变细，但是，基片负偏压的提高也会产生一些不利的影响，如反溅射作用的增加，使膜层表面受到刻蚀，使表面光洁程度降低，图3表明了空心阴极离子镀铬时，基片负偏压对铬膜表面光泽度的影响，基片负偏压的提高还会使沉积速率降低，使基片温度升高，图4表明了电弧离子镀tin膜基片负偏压对沉积速率的影响，因此，应根据不同的离子镀方法、不同的膜层及使用要求选择适当的基片负偏压。
②镀膜真空度和反应气体分压.
离子镀膜真空度对膜层***、性能的影响与真空蒸镀时的影响规律相似，但反应气体分压对反应离子镀镀制化合物膜的成分、结构和性能有直接的影响，图5是hcd离子镀tin膜的硬度与氮气分压的关系，因此反应气体的分压应根据离子镀方法，化合物膜层的成分、性质、使用要求以及设备来选择
③基片温度.
离子镀膜基片温度的高低直接影响着膜层的***、结构和性能。一般情况下，温度的升高有利于提高膜层与基片的附着力，有利于改善膜层的***与性能。但是，温度过高，则会使沉积速率降低，有时还会使膜层晶粒粗大，性能变坏；图6中hcd离子镀铬膜显微硬度受基片温度影响的规律。另外，基片温度的选择还要受基片材料性质的限制，如钢材的回火温度等
④蒸发源功率．
蒸发源功率对蒸发速率有直接的影响，进而影响沉积速率，影响膜层的***、性能，对反应沉积化合膜时蒸发源功率也将影响膜层的成分。
为了获得所需性能的膜层，应综合分析、考虑各种因素，迭择镀膜方法和确定合理的镀膜工艺参数。
离子真空镀膜机镀膜应用范围介绍
***近很多客户关于离子真空镀膜机相关知识，问的问题各不相同，但是从这些问题里面能发现一个问题，客户对离子镀膜机相关知识了解甚少，只是停留在基础表面，因此在和我们沟通的过程中，会出现沟通不是很顺利，因为我们需要详细的介绍很多***性的问题。今天至成真空小编趁着这个机会，为大家详细介绍一下离子真空镀膜机镀膜应用范围，这样大家以后也知道离子真空镀膜机后期能运用到哪些行业，及离子镀膜机能镀什么产品。
1、离子真空镀膜机镀膜的应用范围：半导体集成电路、光导纤维、太阳能电池、太阳能热水器、太阳灶、光盘、磁盘、敏感元件、平板显示器、选择吸收玻璃、智能窗玻璃、***植入部件等功能薄膜；
2、离子镀膜技术应用范围：工模具超硬涂层、航天轴承、机械零件；汽轮机叶片的耐蚀涂层；装饰件、手机配件。
3、离子镀薄膜的膜层结构：单源单层：氮化钛涂层TiN、TiC、ZrN、CrN、AlN等。硬度约1800—2600Hv；多元单层：TiCN、TiAlN等。硬度2200—2800Hv；复合涂层：TiN/TiCN、TiN/TiCN/TiN、TiN/ZrN、TiN/CrN、TiN/AlN、TiN/C3N4、TiN/C3N4/DLC等。硬度3500—4500Hv；
4、纳米结构涂层；多层膜中的每一层厚度为nm,也称之为“调制周期”。各层可以是化合物/化合物，也可以是金属非晶/纳米金属化合物，如：nc-TiN/a-Si3N4、Ti-Al-N、Ti-B-N等。调制周期6.8—30nm，硬度可达4700—10000Hv（47—100GPa）。要求镀膜机的配置能够满足沉积薄膜的厚度为0.2—5μm的纳米多层膜。