真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物***相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为***终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物***相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。
化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
真空镀膜机蒸发系统介绍
真空镀膜机蒸发系统主要指成膜装置部分，镀膜机器的成膜装置很多，有电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等多种方式，鄙人就电阻加热和电子枪蒸发两种方式作介绍，因为此两种方式我应用的比较多。
电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应用多，广泛的蒸发方式，也是应用时间长的蒸发方式。它的工作方式是，将钨片做成船状，然后安装在两个电极中间，在钨舟***加上***，再缓缓给电极通电，电流通过钨舟，钨舟通电发热，这些低电压，大电流使高熔点的钨舟产生热量，再热传导给镀膜材料，当钨舟的热量高于镀膜材料熔点的时候，材料就升华或者蒸发了，此方法由于操作方便，结构简单，成本低廉，故被很多设备应用，但是其蒸发出来的薄膜由于致密性不佳，加上很多材料无法采用这种方式蒸镀，所以其有一定局限性。钨舟蒸发镀膜材料的时候，材料的熔点必须小于钨舟的熔点，否则就没有办法进行。
冲压件真空镀膜设备
工具经冲压件真空镀膜设备硬质涂层处理后，其性能更稳定，可出稳定、高质量的工件，可防止功能性表面、刀刃和拉伸半径受到磨损，显著延长工具的使用寿命；使用寿命的延长和行程率的提高在提高生产率的同时降低了单位成本；底层坚硬而顶层摩擦低的涂层系统，降低了粘附磨损，从而可能减少对环境产生不良影响的润滑剂的用量，甚至完全不使用润滑剂；因为涂层减少了工具负荷并因而降低了破损风险，生产可靠性得以提高，对于金属薄板成型工具，涂层可用作磨损指示器，磨损和冷焊的减少改进了工件的表面质量，也使工件能够满足对其外观的更高要求，光洁度也与随后的电镀工艺更加相匹配。
真空镀室的真空密封和室内运动部件的设计和用材，充分考虑可承受高温，配置多只***园形电弧蒸发源，或配多个矩形平面电弧蒸发源，也可配多只空心阴极枪，同时配置耐冲击的、具有优异灭闪弧性能的偏压电源，保证足够等离子体密度和反应活性，提高膜层致密性和结合力。工件可三维运动，提高膜层均匀性。全自动控制提高工艺稳定性。