真空电镀设备膜厚的不均匀问题
无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。
在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化化等方面。
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。
镀膜过程中产生喷点主要有以下几种原因:
1、镀膜材料纯度不高，含杂质较多,预熔过程中无法将这些杂质去除,蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。
2、材料较为潮湿,预熔时电子枪光斑不能将表面的材料全部熔化,在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀制MgF2及一些直接升华的材料时较易发生)。
3、镀膜前对材料进行预熔时不够充分,蒸镀过程中材料里的细小颗粒溅上工件表面形成喷点。
4、镀膜过程中,电子枪束流过大引起的材料飞溅产生的喷点。
手机纳米膜真空镀膜与电镀的区别
真空镀膜又称真空离子镀，是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种全新的干式镀膜方法。过去物体表面镀制薄膜作为物体表面改性的手段是采用湿式的电镀发或化学镀法。
在电镀法中，被电解的离子镀到作为电解液中另一个电机的被镀件表面上而成膜，因此，其基体必须是良导体，度也难以控制。
(1)水电镀颜色较单调，一般只有亮银和亚银等少数几种，对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等，五花八门的七彩色就无能为力了;而真空电镀可以解决七彩色的问题，可镀金色、红色、蓝色等各种颜色。
(2)真空镀膜的附着力(附着强度)好，膜层十分牢固，不易脱落。
(3)真空镀膜的膜材和基体材料有广泛的选择性，可制备各种不同的功能性涂层。
(4)电镀一般的镀层材质采用“六价铬”，这是非环保材料，无法出口欧美市场，而真空电镀的镀层材质为铝，安全环保，能达到欧美市场的环保监测指标。