高纯度氟化镁是一种无色四方晶体或粉末，金红石型晶格。无味，难溶于水和醇，微溶于稀酸，溶于HNO3。相对密度为3.18，熔点为1248℃，沸点为2260℃。在电光下加热呈弱紫色荧光，其晶体有良好的偏振作用，特别适于紫外线和红外光谱。***性。高纯度氟化镁是只含有离子键的离子化合物，它与于强氧化剂发生反应，加入HNO3可将其溶解。
高纯度氟化镁特性：（1）在真空紫外到红外(0.11～8.5μm)波段有很高的透过率；（2）抗撞击和热波动以及辐照；（3）良好的化学稳定性；（4）可用于光学棱透镜、锲角片、窗口和相关光学系统中；（5）四方双折射晶体性能，可用于光通讯。
金属具有优良的反射性能，常被用作高反射镜，常用的有铝、银、金等。但是这些材料质软，容易所怀，所以通常在其表面镀一层保护膜，高纯度氟化镁是***常用的保护膜材料。由于MgF2化学稳定性好，同时几乎无吸收，因此在保护Al反射膜不被氧化的同时，保持了Al的高反射性。目前，这种Al|MgF2反射器以广泛用于远紫外波段工作的光学器件，如空间紫外遥控器中的漫反射板。
高纯度氟化镁用途：光学透镜镀膜。光学器材镀上一层氟化镁膜层，可以减少镜头界面对射入光线的反射，减少光晕，提高成像质量。另外高纯度氟化镁还应用在陶瓷、电子工业；制造陶瓷、玻璃；冶金镁金属的助熔剂；阴极射线屏的荧光材料；焊剂等。
化学性质：高纯度氟化镁是只含有离子键的离子化合物，它与于强氧化剂发生反应，加入HNO3可将其溶解：
