公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复i制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复i制至相片上。
掩膜版的制作方法
提供一种掩膜版，包括对盒设置的第i一基板和第二基板；所述第i一基板下方设有阵列像素单元，每个所述像素单元包括i 一个薄膜晶体管 TFT ；所述第二基板上方设有透明导电层；所述透明导电层和所述阵列像素单元之间填充液晶；生产复杂集成电路的过程可能需要多达50个光刻步骤，而生产薄膜所需的光刻步骤数量将更少。所述透明导电层和所述阵列像素单元表面分别设有配向膜层，用于使液晶分子沿 所述配向膜层表面的取向槽排列； 所述第i一基板上方设有第i一偏光器件；所述第二基板下方设有第二偏光器件；还包括驱动单元，用于向所述阵列像素单元施加等级电压，以控制所述掩模版的 入射光通过强度。
接触光刻技术中使用的掩模的表面特征图案的尺寸与实际掩模的尺寸相同。
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在衬底上形成的图案是1∶1，并且以直接接近光致抗蚀剂层表面的方式***
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光线；另一方面，缩微技术中使用的掩模具有表面特征图案的实际尺寸。
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在衬底上形成的图案的几次通过光学系统投影模式***
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光明。随后应用前边提及的显影液，融解掉被直射的地区，那样，光掩模上的图型就展现在光刻胶上。 