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电镀工艺有锐边变厚的现象。电镀中的锐边会引起尖i端放电,造成边角镀层隆起。因此应尽量采用圆角过渡,圆角半径至少0.3 mm 以上。平板形塑件难电镀,镀件的中心部分镀层薄,uv真空镀膜加工厂,越靠边缘镀层越厚,整个镀层呈不均匀状态,应将平面形改为略带圆弧面或用桔皮纹制成亚光面。电镀的表面积越大,中心部位与边缘的光泽差别也越大,略带抛物面能改善镀面光泽的均匀性。如需咨询,uv真空镀膜设备,欢迎您拨打图片上的电话联系我们,我们将竭诚为您服务!







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表面光亮度的测定
样板对照法实际上是对目测法的改进,属于目测法中的比较测量法。由于样板对照法 是以规定的标准光亮度样板进行比较,有相对参考依据,所以在一定程度上排除了人为争议,提高了评定正确性。
制作标准光亮度样板
(1)一级光亮度样板:经加工标定粗糙度为0.04μmlt;Ralt;0.08μm的铜制(或铁制)试 片,经电镀光亮镍后套铬抛光而成。
(2)二级光亮度样板:经加工标定粗糙度为 0.08μmlt;Ralt;0.16μm 的铜制(或铁制)试片,经电镀光亮镍后套路抛光而成。
(3)三级光亮度样板:经加工标定粗糙度为0.16 μmlt;Ralt;0.32μm 的铜制(或铁制)试 片,经电镀光亮镍后套铬抛光而成。
(4)四级光亮度样板:经加工标定粗糙度为0.32 μmlt;Ralt;0.64μm 的铜制(或铁制)试片,经电镀光亮镍后套铬抛光而成。
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金属金、银、钯回收技术;金刚石镶嵌镀技术;不锈钢电化学和化学精抛光技术;纺织品镀铜、镀镍技术;硬金(Au-Co,Au-Ni)电镀;钯钴合金电镀;枪黑色Sn—Ni 电镀;化学镀金;纯金浸镀;化学沉银;化学沉锡。
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