引起镀膜玻璃膜层不均匀原因有哪些
由于残余气体的存在，不但影响膜的纯度及质量，还会产生。所以在生产中要选用高纯度的气为工作气体，严格控制真空室的漏气速率，以减小残余气体对原片及膜层的污染。将残余气体的压力控制在10Pa以下，要经常清理加热室、玻璃过渡室、溅射室的环境，减少扩散泵返油对玻璃的污染。同时可适当提高阴极的溅射功率，以增加粒子动能及扩散能力，这将有利于清除被镀膜玻璃表面的残留物质，减少镀膜玻璃的。镀膜玻璃膜的膜层均匀度一般地讲，同一基片上膜层厚薄不同，就称之为膜层不均匀。引起镀膜玻璃膜层不均匀的原因是多方面的。磁控溅射靶的水平磁场强度（B）对膜层均匀度的影响磁控溅射的关键参数之一是与电场垂直的水平磁场强度B，因为水平磁场强度B要求在阴极靶的表面是一个均匀的数值。而实际生产过程中值是随着使用方法及时间的推移，产生一定的变化，而出现不均匀现象。我们从溅射过的阴极靶材的刻蚀区的变化情况就可以验证。
真空镀膜技术优点
镀层附着性能好：普通真空镀膜时，在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层，好似截然分开。而离子镀时，离子高速轰击工件时，能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生,可见附着多么牢固，膜层均匀，致密。
绕镀能力强：离子镀时，蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动，因而凡是有电场存在的部位，均能获得良好镀层，这比普通真空镀膜只能在直射方向上获得镀层优越得多。
因此，这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝。等其他方法难镀的部位。用普通真空镀膜只能镀直射表面，蒸发料粒子尤如攀登云梯一样，只能顺梯而上；而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中，带电离子则好比坐上了直升飞机，能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。
镀层质量好：离子镀的镀层***致密、无孔、无气泡、厚度均匀。甚至棱面和凹槽都可均匀镀复，不致形成金属瘤。象螺纹一类的零件也能镀复，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
热成型模真空镀膜机有什么优势：
热挤压模：热挤压过程中所使用的铁合金与非铁合金工具必须经受因腐蚀与超高温而产生的高成形压力，严重的磨粒磨损以及粘着磨损。HC物***相沉积涂层与HC化学气相沉积涂层展现了其高韧性，耐磨性，抗腐蚀性以及热稳定性，而这些性能恰恰能够明显地提高工具的使用效率。HC化学气相沉积涂层通常适用于拥有复杂几何图形和较大长宽比的工具。HC08,HC10或HC29涂层适用于公差要求不高的工具，而结合了渗氮处理的HC35,HC22或HC30涂层适用于公差要求很高的热挤压工具。
热锻模：热锻造过程中所使用的工具必须经受高成形压力，严重的磨粒磨损以及粘着磨损，并且需要经历要求严苛的热环境条件。另外，它们必须经受高水平的冲击，因此地提升工具性能变得更具挑战性。HC物***相沉积涂层具有高韧性，耐磨性，热稳定性以及抗擦伤性，而这些性能恰恰能够提高工具的使用效率以及铁合金与非铁合金产品的质量。
结合了渗氮处理的HC22,HC25与HC30涂层适用于热锻造工具。